欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
立项数据库
> 立项详情页
基于标准数字工艺的3D FinFET MOS电容电路线性度补偿技术研究
项目名称:基于标准数字工艺的3D FinFET MOS电容电路线性度补偿技术研究
项目类别:青年科学基金项目
批准号:61604014
项目来源:国家自然科学基金
研究期限:1900-01-01-1900-01-01
项目负责人:殷树娟
依托单位:北京信息科技大学
批准年度:2016
成果综合统计
成果类型
数量
期刊论文
会议论文
专利
获奖
著作
3
0
0
0
0
期刊论文
可穿戴式医疗芯片研究进展
医学应用集成电路的新进展
浅谈集成电路类专业英语课程改革
殷树娟的项目