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中国发明专利：一种制备氧化物陶瓷涂层的阴极微弧电沉积方法
  • 编号：ZL 01118541.4
  • 所属机构名称：北京科技大学
  • 第一作者所属机构：University of Science and Technology Beijing
  • 成果类型：获奖
  • 相关项目：阴极微弧电沉积氧化锆-氧化钇陶瓷涂层的研究
作者： 何业东；杨晓战；王德仁|
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