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Effect of Scratching Load on the Friction-induced Selective Etching of Si3N4 Film on Si(100) Surface
  • 颁奖组织：The 14th IFToMM World Congress
  • 类别：Best Research Paper Award
  • 时间：2015.10.30
  • 级别：国际学术奖
  • 所属机构名称：西南交通大学
  • 成果类型：获奖
  • 相关项目：单晶硅表面摩擦诱导化学磨损的行为、机理及控制研究
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