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High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology
  • 所属机构名称：安徽大学
  • 时间：2012
  • 成果类型：著作
  • 出版社：Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. kGaA
  • 相关项目：金属/介质复合团簇薄膜制备及表征中的关键问题研究
作者： 何刚|孙兆奇|
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