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计算机硬盘基片的CMP后清洗技术研究
  • 所属机构名称：上海大学
  • 会议名称：2010全国青年摩擦学及工业应用研讨会, 2010.8.15-8.17,杭州. 国内，口头报告
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：计算机硬盘基片原子级平整表面污染物的作用机制与超精密清洗技术
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