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单晶二氧化铈纳米片的合成与表征
  • 所属机构名称：浙江理工大学
  • 会议名称：第三届功能氧化物材料与应用研讨会
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：曲面应力体系皱褶规律的研究和有序结构的实现
作者： 郑莹莹|孙庆堂|李超荣|董文钧|
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曲面应力体系皱褶规律的研究和有序结构的实现
期刊论文 29 会议论文 18
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