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Oxygen precipitation in heavily phosphorus-doped Czochralski silicon
  • 所属机构名称：浙江大学
  • 会议名称：ISTC/CSTIC 2009 (CISTC)
  • 成果类型：会议
  • 会场：Shanghai, China
  • 相关项目：重掺磷直拉硅单晶的微缺陷研究
作者： Zhang, Xinpeng|Que, Duanlin|Yang, Deren|Lin, Lixia|Ma, Xiangyang|Zeng, Yuheng|
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