位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
M/Bi3.4La0.6Ti3O12/I/Si capacitors for the application in FEDRAM
  • 所属机构名称：清华大学
  • 会议名称：2007 International Workshop on Electron Devices and Semiconductor Technology, IEDST 2007
  • 成果类型：会议
  • 会场：Beijing, China
  • 相关项目：面向新型铁电DRAM的关键材料及MFIS界面特性研究
作者： Ren, Tianling|Liu, Litian|Xie, Dan|
同会议论文项目
面向新型铁电DRAM的关键材料及MFIS界面特性研究
期刊论文 13 会议论文 4 专利 3
同项目会议论文
Enhanced ferroelectric properties of BiFeO3/Bi 3.15Nd0.85Ti3O12 multilayer capacitors at room temper
Inducing layer dependence of BiFeO3 based multilayer capacitors
Buffer Layer Dependence of B3.15Nd0.85Ti3O12 (BNdT) Based MFIS Capacitor for FeFET Application