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Annealing process influence and dopant-silicide interaction in self-aligned NiSi technology
  • 所属机构名称：复旦大学
  • 会议名称：Proceedings of the Seventh International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology
  • 语言：英文
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：多层薄膜固相反应与Co-Ni系硅化物薄膜外延及应用研究
作者： 茹国平|蒋玉龙|屈新萍等|
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多层薄膜固相反应与Co-Ni系硅化物薄膜外延及应用研究
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