位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Stress relaxation in sandwiched Si3N4/Al/Si 3N4 thin films
  • 所属机构名称：西安交通大学
  • 会议名称：6th International Conference on Processing and Manufacturing of Advanced Materials - THERMEC'2009
  • 成果类型：会议
  • 会场：Berlin, Germany
  • 相关项目：超薄超细晶体材料的尺寸效应及其能量学研究
作者： Ma, F.|Xu, K.W.|Ma, B.|Chang, G.R.|
同会议论文项目
超薄超细晶体材料的尺寸效应及其能量学研究
期刊论文 19 会议论文 3
同项目会议论文
Effect of oxide layer on Al-induced crystallization of amorphous Si 1-xGex thin films
双金属多层纳米线的塑性变形