位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Growth of Copper Films on Silicon Substrates by CVD
  • 所属机构名称：浙江大学
  • 会议名称：18th International Conference on Chemical Thermodynamics
  • 作者或编辑：3448
  • 第一作者单位：浙江大学化学系
  • 语言：英文
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：二阶段式化学气相沉积成长铜薄膜及其反应机理研究
作者： Bo Tao|Song Wu|Qi Wang（王琦*）|
同会议论文项目
二阶段式化学气相沉积成长铜薄膜及其反应机理研究
期刊论文 18 会议论文 1
同项目会议论文