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HfTaO高k栅介质薄膜的离子束制备及表征
  • 所属机构名称：苏州大学
  • 会议名称：第十七届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：双频调制等离子体和双离子束制备复合铪基高k薄膜机理及物理特性
作者： 余涛|陈静|罗杰馨|柴展|伍青青|吴雪梅|
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