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Stress Analysis of Mo, MoSi(2) and Si Mono-layerThin Films and Multilayers Prepared by Magnetron Spu
  • 所属机构名称：同济大学
  • 会议名称：Conference on Advances in X-Ray/EUV Optics and Components V
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：X射线高分辨率多层膜设计、制作与检测方法研究
作者： Zhu, Jingtao|Huang, Qiushi|Li, Haochuan|Wang, Fengli|Wang, Xiaoqiang|Wang, Zhanshan|Chen, Lingyan|
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