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Study on preparation and resistive switching characteristics of SnO2 films
  • 所属机构名称：杭州电子科技大学
  • 会议名称：中国微米纳米技术学会第十五届学术年会(CSMNT2013)
  • 时间：2013.11.11
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：金属氧化物ReRAM的稳定性和可靠性研究
作者： 李红霞|陈辉|柯伟青|席俊华|孔哲|季振国|
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金属氧化物ReRAM的稳定性和可靠性研究
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