欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
会议
> 会议详情页
高分辨全息光栅制作技术
所属机构名称:中国科学院光电技术研究所
会议名称:全国光电技术学术交流会论文集,442-445,2000.11.3-8,广西北海
作者或编辑:3448
语言:中文
成果类型:会议
相关项目:波前共轭全息微光刻研究
作者:
冯伯儒|张锦|等|
同会议论文项目
波前共轭全息微光刻研究
期刊论文 9
会议论文 6
同项目会议论文
全内反射全息光刻实验研究
Optical Holography Used in Optical Microlithography
波前共轭全息技术在微细图形光刻中的应用
全内反射全息微光刻分辨力研究
用于全息微光刻的计算全息编码掩模