位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
微波化学气相沉积制备氧化铝薄膜及钝化性能研究
  • ISSN号:1672-7126
  • 期刊名称:《真空科学与技术学报》
  • 时间:0
  • 分类:O484[理学—固体物理;理学—物理] TB43[一般工业技术]
  • 作者机构:东北大学机械及自动化学院,沈阳110004
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50704012);辽宁省博士启动基金资助基金(20061017)
中文摘要:

AlOx薄膜作为高效太阳能电池中P层钝化薄膜引起了光伏龙头企业的关注。本文利用最新研发的微波等离子增强化学气相沉积(MW-PECVD)系统,在单晶硅基体上用不同微波功率和生长温度制备氧化铝膜层样品,并通过扫描电镜、SE800椭偏仪和WT2000少子寿命测量仪对薄膜的成分、表面形貌、厚度、沉积速度、钝化性能进行分析。实验结果表明,LMW-PECVD制备的AlOx薄膜沉积速度快且薄膜质量高,适用于大规模企业生产。此外,微波功率和生长温度都对AlOx薄膜的钝化性能有着显著的影响。

英文摘要:

The AlOxcoatings,grown by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition( MW-PECVD)on substrate of p-type Si wafer for fabrication of high efficiency solar cells on industrial scale,were passivated. The impact of the microwave power,substrate temperature,deposition-rate and film thickness,on the microstructures and properties of the AlOxcoatings was investigated with scanning electron microscopy,ellipsometry and measurement of the minority carrier lifetime( WT2000). The results show that MW-PECVD is capable of synthesizing high quality AlOxcoatings at a fast deposition-rate on industrial scale. For example,as the microwave power increased,the deposition-rate rapidly increased to 101 nm / min till 1200 W,and then remained almost unchanged;as the temperature increased,the deposition-rate changed in an increase-decrease mode,peaking at 350℃. Deposited at a power in1200 ~ 1300 W range and at 400℃,the minority carrier lifetime of the AlOx/ Si,with film thicker than 25 nm,was up to 160 μs.

同期刊论文项目
期刊论文 30 会议论文 2 获奖 1 专利 1
同项目期刊论文
期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国真空学会
  • 主编:李德杰
  • 地址:北京朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
  • 邮编:100022
  • 邮箱:cvs@chinesevacuum.com
  • 电话:010-58206280
  • 国际标准刊号:ISSN:1672-7126
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5177/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:4421