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辅助气体对RF-PECVD制备碳纳米管薄膜形貌的影响
  • ISSN号:1003-1545
  • 期刊名称:《材料开发与应用》
  • 时间:0
  • 分类:TB383.2[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]西北工业大学应用物理系
  • 相关基金:国家自然科学基金(50771082,60776822)
中文摘要:

采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以Ni为催化剂,经600℃裂解C2H2在Si基底上制备出定向碳纳米管薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)表征了刻蚀后Ni颗粒与沉积的碳纳米管薄膜的形貌。研究了辅助气体对等离子体预处理催化剂与碳纳米管生长的影响。结果表明:辅助气体(H2与N2)流量比对催化剂颗粒尺寸、分布以及碳纳米管生长有显著影响;合适的气体流量比有利于减少碳纳米管薄膜的杂质颗粒,促进其定向生长。预处理过程中气体流量比H2:N2=20:5时,预处理后催化剂Ni颗粒分布密度大、粒径小且分布范围窄,适合碳纳米管均匀着床;沉积生长碳纳米管薄膜时,H2:N2=20:15可得到纯度高、定向性好的碳纳米管。

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期刊信息
  • 《材料开发与应用》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国船舶重工集团公司
  • 主办单位:洛洛阳船舶材料研究所 中国造船工程学会船舶材料学术委员会
  • 主编:王其红
  • 地址:河南省洛阳市023信箱5分箱
  • 邮编:471023
  • 邮箱:TG023@163.com
  • 电话:0379-67256142
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-1545
  • 国内统一刊号:ISSN:41-1149/TB
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 河南省优秀期刊,造船工程学会优秀期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),中国中国科技核心期刊
  • 被引量:5385