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Analysis of Magnetic Field and Discharge Plasma for HTS Magnetron Sputtering Apparatus
  • ISSN号：1051-8223
  • 期刊名称：IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY
  • 时间：0
  • 页码：1017-1020
  • 相关项目：中频脉冲直流磁控溅射放电机理与镀膜应用
作者： Qiu, Qingquan|Xiao, Liye|Huang, Tianbin|Zhang, Guomin|Li, Xiaohang|
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