位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Structural and microstructural analyses of crystalline Er2O 3 high-k films grown on Si (0 0 1) by la
  • ISSN号：1359-6454
  • 期刊名称：Acta Materialia
  • 时间：0
  • 页码：1644-1650
  • 语言：英文
  • 相关项目：多铁性外延复合薄膜中原子尺度的界面结构与缺陷
作者： Wang, X.|He, M.|Lu, H.B.|Ma, X.L.|Zhu, Y.L.|
同期刊论文项目
多铁性外延复合薄膜中原子尺度的界面结构与缺陷
期刊论文 9 会议论文 2
同项目期刊论文
Microstructural evolution of [PbZrxTi1-xO3/PbZryTi1-yO3](n) epitaxial multilayers (x/y=0.2/0.4, 0.4/
Microstructure tuning of epitaxial BaTiO3 (-) (x) thin films grown using laser molecular-beam epitax
Dislocations in charge-ordered Pr0.5Ca0.5MnO3 epitaxial thin films prepared by a two-step growth tec
Microstructure of the potentially multiferroic Fe/BaTiO3 epitaxial interface
多铁性BiFeO3/SrTiO3多层膜的透射电镜研究