位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
溅射非晶钴硅薄膜的晶化过程及其分析
  • ISSN号：1001-4012
  • 期刊名称：《理化检验：物理分册》
  • 时间：0
  • 分类：TB43[一般工业技术]
  • 作者机构：[1]上海交通大学材料科学与工程学院 高温材料及高温测试教育部重点实验室,上海200030, [2]中国石油天然气管道科学研究院,廊坊065000
  • 相关基金：国家自然科学基金（50131030）,上海AM基金（0211）
作者： 李伟[1], 徐昌学[2], 姜传海[1], 吴建生[1]
关键词： 非晶钴硅薄膜, X射线分析, 自由能曲线, Amorphous Co-Si film, X-ray diffraction, Gibbs free energy curve
中文摘要：

利用射频磁控溅射方法制备了具有CoSi2成分的非晶薄膜，对非晶薄膜的晶化过程进行了原位X射线分析。结果显示，溅射态薄膜为非晶态，而自由能一成分曲线说明非晶态合金有较低自由能。在非晶晶化过程中初生相为CoSi相，其形成由有效形成热（EHF）因素和结构因素决定。随加热温度升高，非晶薄膜晶化最终得到晶体CoSi2薄膜。

英文摘要：

Crystallization process of CoSi2 thin films prepared by radio frequency rnagnetron sputtering have been investigated by in situ X-ray diffraction. The results show that the as-deposited Co-Si film is amorphous. The gibbs free energy-composition curve proved that amorphous phase has lower Gibbs free energy. The first formed phase during crystallization is CoSi phase, its formation is determined by EHF （effective heat of formation） and structure factors. As the temperature was elevated, the amorphous thin film finally transformed to crystalline CoSi2.

同期刊论文项目
金属硅化物结构和功能应用的基础研究
期刊论文 38
同项目期刊论文
Corrosion behavior of sputtered Cr-Si-Ni and Cr-Si-Ni-Al resistive films in 0.1 M NaOH
Cr-Si-Ni电阻薄膜在酸碱溶液环境中的电学稳定性
Oxidation of stoichiometric poly- and single crystalline MoSi2 at 773K
Effect of Mo addition on the phase stability of beta-Nb5Si3 phase
双相材料中相间内应力的X射线测量与表征
测定薄膜厚度的基片X射线衍射法
Mo3Si-Mo5Si3共晶硅化物的氧化
Effect of Mo addition on microstructure and properties of Nb/Nb5Si3 in-situ composite
Mo对于Nb/Nb_5Si_3原位复合材料室温韧性的影响
Nb_3Si对Nb-18Si原位复合材料微观组织的影响
Effect of annealing on the microstructures and Vickers hardness at room temperature of intermetallic
Effect of annealing on the microstructures and mechanical Properties of Mo3Si-MNSi3 eutectic
热处理对Mo-Si系金属间化合物微观组织和断裂韧性的影响
热处理对钼-硅系金属间化合物显微组织和力学性能的影响
NbSi2在1023K氧化动力学和氧化行为的高温原位观察
制备参数对磁控溅射CoSi2薄膜织构的影响
Effect of zirconium addition on formation of CoSi2 thin films
Analysis and characterization of 2-D X-ray diffraction profile for CoSi2 film
Effect of annealing on CoSi2 thin films prepared by magnetron sputtering
Effect of substrate temperatures on texture in thin films by magnetron sputtering
Zr对非晶Co-Si薄膜晶化和相变的影响
(Cr-Si-Ni)/Si薄膜的微观结构和电阻率
In-situ observations of the pest oxidation process of NbSi2 at 1023K
Environmental effects on electrical properties of Cr-Si-Ni resistive films deposited by magnetron sp
Corrosion behavior of sputtered Cr-Si-Ni resistive films in acidic and alkaline environments
Growth of single crystals and low temperature oxidation behaviors of MoSi2 and NbSi2
Microstructure and properties of directionally solidified NbSi2/Nb5Si3 composites
Nb-10Si合金室温断裂韧性研究
Mo effect on the phase stability and room-temperature fracture toughness of Nb/Nb5Si3 in-situ compos
Growth kinetics of C11(b) lamellae in (Mo-0.85 : Nb-0.15)Si-2 intermetallics
The control of microstructures in (Mo1-x, Nb-x)Si-2 intermetallics
热处理对(Mo_(0.85)Nb_(0.15))Si_2单晶显微结构的影响
The effect of lamellar structure in Mo-5-Si-3 alloy refined by annealing on the Vickers hardness at
碱性溶液环境中CrSi（Ni,Al）电阻薄膜的电学稳定性及劣化机理
Al置换Si对CoSi电子结构及传输性能的影响
Cr—Si—Ni电阻薄膜在酸碱溶液环境中的电学稳定性
热电材料CoSi化合物的机械合金化合成
期刊信息
  • 《理化检验：物理分册》
  • 主管单位:上海科学院
  • 主办单位:上海材料研究所
  • 主编：李和平
  • 地址：上海市邯郸路99号
  • 邮编：200347
  • 邮箱：pt@mat-test.com
  • 电话：021-65556775-361 021-65547443
  • 国际标准刊号：ISSN：1001-4012
  • 国内统一刊号：ISSN：31-1338/TB
  • 邮发代号:4-183
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）
  • 被引量:6057