中文摘要：

为了提高数码相机量测化检校水平,针对目前数码相机量测化检校方法中存在的对物方控制条件要求高、未知参数间相关性强等缺陷,提出了一种新的数码相机检校方法二维分步检校(MSC)方法,即利用微型平面控制场,避开在一个平差过程中同时解算内外方位元素,分步骤独立检校相机的方位元素,避免因同时解算内外方位而产生的未知数之间的相关问题,并减弱像片方位元素对畸变系数解算的影响。实际应用表明,使用该方法能够获得较高的检测精度,因而具有可行性。