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磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究
  • ISSN号:1007-2276
  • 期刊名称:红外与激光工程
  • 时间:0
  • 页码:59-62
  • 语言:中文
  • 分类:TN215[电子电信—物理电子学] O484.1[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:华中科技大学光电子科学与工程学院,湖北,武汉,430074, 武汉光电国家实验室,湖北,武汉,430074 华中科技大学光电子科学与工程学院,湖北,武汉,430074 华中科技大学光电子科学与工程学院,湖北,武汉,430074, 武汉光电国家实验室,湖北,武汉,430074 华中科技大学光电子科学与工程学院,湖北,武汉,430074 华中科技大学光电子科学与工程学院,湖北,武汉,430074, 武汉光电国家实验室,湖北,武汉,430074
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(60671004)
  • 相关项目:微波、毫米波开关电路基础研究
中文摘要:

主要介绍了红外探测器的分类、发展,及基于氧化钒薄膜的热探测器的优势;采用直流磁控溅射法在相对较低温度220℃下制备出电阻温度系数(TCR)为-1.9%/℃的VOx薄膜.通过XRD、AFM、红外透过测试方法对薄膜的形貌、组分及其红外吸收性能进行分析,结果表明该VOx薄膜非常适合用作非制冷红外探测器热敏材料.与传统的工艺相比,由于该薄膜淀积过程无需高温退火,在后期的红外焦平面制作过程中,可以较好地保护红外焦平面阵列的CMOS电路.

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期刊信息
  • 《红外与激光工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国航天科工集团
  • 主办单位:天津津航技术物理研究所
  • 主编:张锋
  • 地址:天津市空港经济区中环西路58号
  • 邮编:300308
  • 邮箱:irla@csoe.org.cn
  • 电话:022-58168883 /4/5
  • 国际标准刊号:ISSN:1007-2276
  • 国内统一刊号:ISSN:12-1261/TN
  • 邮发代号:6-133
  • 获奖情况:
  • 1996年获航天系统第五次科技期刊评比三等奖,1998年获航天系统第六次科技期刊评比二等奖,1997-2001年在天津市科技期刊评估中被评为一级期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:17466