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Charge Trapping Memory Characteristics of p-Si/Ultrathin Al2O3O/(HfO2)(0.8)(Al2O3)(0.2)/Al2O3/Metal
  • ISSN号：1099-0062
  • 期刊名称：Electrochemical and Solid-State Letters
  • 时间：0
  • 页码：G13-G16
  • 相关项目：多元氧化物高介电系数介质材料在电荷存储器件中的应用研究
作者： Tang, Zhenjie|Xia, Yidong|Xu, Hanni|Yin, Jiang|Liu, Zhiguo|Li, Aidong|Liu, Xiaojie|Yan, Feng|Ji, Xiaoli|
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