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纳米线阵列的电化学优化光吸收增强研究
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TB34[一般工业技术—材料科学与工程] O472.3[理学—半导体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]中山大学,纳米技术研究中心,光电材料与技术国家重点实验室,广东省低碳化学能源重点实验室,物理科学与工程技术学院,广州510275
  • 相关基金:广东省科技计划项目(2010AO-80805002;20118090600023);光电材料与技术国家重点实验室资金;长江学者和教育部创新团队发展计划(IRT13042)
中文摘要:

通过在自生长的半导体Cu2S纳米线阵列表面进一步应用电化学表面沉积处理,在纳米线表面形成尺寸更小的Cu2S纳米颗粒结构,实现了在不减小纳米线直径或增加纳米线长度的情况下,有效提高了纳米线阵列光吸收性能。利用I-V循环扫描曲线研究了以Cu2S纳米线阵列为工作电极的Cu2S沉积电位,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、紫外-可见-近红外分光光度计,对纳米阵列的相结构、微观表面形貌、晶体结构及光吸收能力进行了表征和分析。研究表明:沉积于单斜晶系Cu2S纳米线阵列上的纳米颗粒为斜方晶系Cu2S,沉积后纳米线表面结构改变,粗糙度明显增加,起到了减少纳米线的光反射、优化原纳米线阵列光吸收综合能力的作用。

英文摘要:

The surface of self-grown monoclinic Cu2 S nanowire arrays were further modified by electrochemical deposition of Cu2 S nanoparticles to enhance the light absorption ability without lowering nanowirers diameter or raising nanowire~s length. Electrochemical deposition was investigated through cyclic voltammetry. SEM, XRD, TEM and UV-IR spectrophotometer were used to characterize the morphology, composition, crystal structure and visible light absorption ability of the nanowire arrays. The results showed that the surface of Cu2 S nanowires were covered with orthorhombic Cu2 S nano-particles, and the nano-sized roughness of nanowire surface could obviously reduced the light reflection of nanowire arrays.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
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  • 邮编:401121
  • 邮箱:matreved@163.com
  • 电话:023-67398525
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
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