位置:成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
巯基-乙烯基加成反应合成含硅聚合物的研究进展
  • ISSN号:1003-3726
  • 期刊名称:《高分子通报》
  • 时间:0
  • 分类:TQ324.21[化学工程—合成树脂塑料工业]
  • 作者机构:[1]中国科学院化学研究所,北京100190
  • 相关基金:科技部973计划(No.2010CB934705);
中文摘要:

巯基-乙烯基加成反应具有清洁、高效、条件温和的特点,广泛应用于有机合成、聚合物科学和材料化学等诸多领域。国内外关于这一反应的研究已有大量文献报道,但该反应在含硅聚合物的合成与应用研究中还少有触及。本文综述了巯基一乙烯基加成反应在聚硅氮烷、聚硅碳烷、聚硅氧烷三种含硅聚合物合成中的应用,介绍了国内外的研究现状及发展趋势,并对硅基聚合物中的巯基一乙烯基加成反应的反应机理、动力学特征及其潜在应用领域进行了概述。

英文摘要:

The thiol-ene addition reaction applications in organic synthesis, polymer and about this reaction,but which has been used is a clean, efficient, robust and mild method with wide materials chemistry. Till now, there are a lot of references rarely in organosilicon and this micro-review summarizes the reports that describe the thiol-ene reactions and polysilazane. The mechanism, kinetics and were overviewed as well. of vinylsilanes prepared in polycarbosilane,polysiloxane its potential applications of thiol-ene addition reaction

同期刊论文项目
同项目期刊论文
期刊信息
  • 《高分子通报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国化学会 中国科学院化学研究所
  • 主编:黄志镗
  • 地址:北京中关村北一街二号(北京2709信箱)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:gfztb@iccas.ac.cn
  • 电话:010-62588926
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-3726
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2051/O6
  • 邮发代号:80-294
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:12665