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纳米线阵列及纳米图形制备技术的研究进展
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TB383[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]同济大学材料科学与工程学院,上海200092
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50572069)
中文摘要:

当今纳米技术研究的前沿和热点之一是将纳米线按一定方式排列与组装构成纳米线阵列及纳米图形,它们是下一代纳米结构器件设计的材料基础,在激光技术、信息存储及计算技术、生物技术等各领域均有广阔的应用前景。介绍了在纳米线阵列材料制备以及纳米图形制作方面的技术研究进展,详述了模板法、自组装法以及纳米刻蚀法等技术的发展。

英文摘要:

Arranging nano-wires in certain ways to form arrays or patterns, which is the material base to design new nanostructure devices, is one of the hotspots in nanotechnology with great potential application in various areas such as laser technology, information storage-calculating technology and biotechnology. The latest advances in the technology of preparing nano-wire arrays and nano-patterns are reviewed in this paper, and fabrication methods such as templating methods, self-assembly technology and nano-lithography are included.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
  • 地址:重庆市渝北区洪湖西路18号
  • 邮编:401121
  • 邮箱:matreved@163.com
  • 电话:023-67398525
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
  • 邮发代号:
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  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:3397