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非晶硅碳合金（a—SiCx：H）薄膜的进展
  • ISSN号：1005-023X
  • 期刊名称：《材料导报》
  • 时间：0
  • 分类：TN304.24[电子电信—物理电子学] TN304.055[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：浙江大学材料系
  • 相关基金：国家自然科学基金(No.69890230
作者： 史国华, 张溪文
关键词： 硅碳合金, 纳米薄膜, 结构, 光电性能, 半导体材料
中文摘要：

从制备方法，结构特征和光电性能等各方面介绍了氢化非晶硅碳合金（ａ－ＳｉＣｘ：Ｈ）薄膜这种重要的半导体材料，对其发展现状及前景进行了综述。并对近年来出现的纳米硅碳（ｎｃ－ＳｉＣｘ：Ｈ）薄膜的发展状况作了专门评述。

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期刊信息
  • 《材料导报：纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
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  • 国际标准刊号：ISSN：1005-023X
  • 国内统一刊号：ISSN：50-1078/TB
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