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纯Ni和Ni-5at.%W基带织构的EBSD研究
  • 期刊名称：电子显微学报, 25 (2006): 363-364
  • 时间：0
  • 分类：TM261.103[电气工程—电工理论与新技术;一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构：[1]西北有色金属研究院,陕西西安710016
  • 相关基金：国家自然科学基金重大项目（No.50432050）
  • 相关项目：高温超导氧化物定向凝固及单晶生长机理的基础理论研究
关键词： 双轴织构, 纯NI, 基带, EBSD, YBCO超导薄膜, 电流传输能力, 临界电流密度, YBCO薄膜
中文摘要：

双轴织构Ni基带是生长高临界电流密度YBCO超导薄膜最好的基带，Ni基带中的织构通过外延生长遗传到YBCO薄膜中，从而使薄膜具有高电流传输能力。但由于纯Ni强度低且具有铁磁性，在传输交流电时会产生交流损耗，

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