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CVD制备3C-SiC及其应用于MEMS的研究进展
  • ISSN号:1005-023X
  • 期刊名称:《材料导报》
  • 时间:0
  • 分类:TM23[电气工程—电工理论与新技术;一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]国防科学技术大学航天与材料工程学院新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室,长沙410073
  • 相关基金:国家自然科学基金(51102282)
中文摘要:

高温、强振、强腐蚀、高湿等恶劣环境中的监测和控制系统对MEMS(Microelectromechanicalsystems)提出了新的挑战。SiC具有化学惰性,高热导率及优良的力学、电学、高温性能,在MEMS技术中备受青睐,成为s卜MEMS体系极具竞争力的替代材料。综述了关于立方相碳化硅(3DsiC)薄膜的化学气相沉积(cVD)制备方法,介绍了其力学、电学性能的最新研究进展,最后举例说明了3CSiC薄膜在MEMS器件中应用的研究现状。

英文摘要:

The monitoring and control systems applied in severe environments, e.g. high temperature, intense shock/vibration, erosive flow, corrosive media, and high moisture, have put forward many challenges for MEMS technology. Silicon carbide (SIC) is a material with very attractive properties for MEMS used in hash environments. Its exceptional properties such as chemical inertness, high thermal conductivity, favorable electrical properties, me- chanical strength, and ability to operate at high temperature make it a competitive alternative to S~based MEMS. A review on the progress of 3C-SiC film involving CVD preparation method, investigations of mechanical and electrical properties is presented. Finally, current status of research on 3C-SiC MEMS devices is introduced and a few examples are given.

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期刊信息
  • 《材料导报:纳米与新材料专辑》
  • 主管单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主办单位:重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
  • 主编:
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  • 邮编:401121
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  • 国际标准刊号:ISSN:1005-023X
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1078/TB
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