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氧气压力对PLD ZnO薄膜形貌及光学性质影响
  • ISSN号：1003-353X
  • 期刊名称：《半导体技术》
  • 时间：0
  • 分类：O484.41[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室
  • 相关基金：国家自然科学基金(10604041,10674133);广东自然科学基金;深圳市科技计划项目(200706)
作者： 曹培江[1], 曾玉祥[1], 贾芳[1], 朱德亮[1], 马晓翠[1], 吕有明[1]
关键词： 氧气压力, 脉冲激光沉积, 氧化锌, PL谱
中文摘要：

使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO2)和单晶Si(111)基底上制备了具有c轴择优取向的ZnO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、表面轮廓仪、扫描电子显微镜(SEM)、荧光光谱(PL)、紫外可见分光光度计,对合成样品进行了结构、成分以及光学性能的分析。结果显示,在1~10Pa的氧气压力条件下制备的所有ZnO薄膜均有着较高的光学透过率(】75%),氧气压力临界值为2Pa。氧气压力2Pa时合成的ZnO薄膜有着较平整的表面及较高的沉积速率(250nm/h),(002)峰的半高宽为0.20°,此时薄膜中氧空位含量较少,薄膜显示出良好的PL特性。

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期刊信息
  • 《半导体技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 主编：赵小玲
  • 地址：石家庄179信箱46分箱
  • 邮编：050051
  • 邮箱：informax@heinfo.net
  • 电话：0311-87091339
  • 国际标准刊号：ISSN：1003-353X
  • 国内统一刊号：ISSN：13-1109/TN
  • 邮发代号:18-65
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘（网络版）,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:6070