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Shadow effect and its revisal in grid-enhanced plasma source ion implantation method
期刊名称:Chin. Phys. Lett.
时间:0
作者或编辑:3448
第一作者所属机构:中科院物理研究所
页码:2004.21(6).1114
语言:英文
相关项目:管件内壁离子注入新技术的机理研究
作者:
张谷令|王久丽|刘元富|刘赤子|杨思泽|
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