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Shadow effect and its revisal in grid-enhanced plasma source ion implantation method
  • 期刊名称:Chin. Phys. Lett.
  • 时间:0
  • 作者或编辑:3448
  • 第一作者所属机构:中科院物理研究所
  • 页码:2004.21(6).1114
  • 语言:英文
  • 相关项目:管件内壁离子注入新技术的机理研究
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