欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Implantation temperature and thermal annealing behavior in H2+-implanted 6H-SiC
ISSN号:0168-583X
期刊名称:Nuclear Instruments and Methods in Physics Researc
时间:2013.1.1
页码:239-244
相关项目:高能重离子辐照注氢碳化硅晶体内部缺陷演化的研究
作者:
李炳生|
同期刊论文项目
高能重离子辐照注氢碳化硅晶体内部缺陷演化的研究
期刊论文 3
同项目期刊论文
Study of the damage produced in 6H-SiC by He irradiation
He离子辐照6H-SiC引入缺陷的光谱研究