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The role of hydrogen in hydrogenated microcrystalline silicon film and in deposition process with VHF-PECVD technique
  • ISSN号：1674-1056
  • 期刊名称：《中国物理B：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：O484[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构：[1]Department of Electronic Engineering, Jinan University, Guangzhou 510632, China, [2]Department of Electric Engineering, Shanhai Dianji University, Shanghai 200240, China
  • 相关基金：Project supported by the Natural Science Foundation of Guangdong Province, China （Grant No 05300378）, the State Key Development Program for Basic Research of China （Grant Nos G2000028202 and G2000028203） and the Program on Natural Science of Jinan University, Guangzhou, China （Grant No 51204056）.
作者： 杨恢东[1,2], 苏中义[2]
关键词： VHF-PECVD技术, 氢化微晶硅, 光发射光谱, 薄膜学, VHF-PECVD technique, hydrogenated microcrystalline silicon, role of hydrogen, optical emission spectroscopy
中文摘要：

E-maih yanghuidong@sohu.com

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期刊信息
  • 《中国物理B：英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
  • 主编：欧阳钟灿
  • 地址：北京 中关村 中国科学院物理研究所内
  • 邮编：100080
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  • 电话：010-82649026 82649519
  • 国际标准刊号：ISSN：1674-1056
  • 国内统一刊号：ISSN：11-5639/O4
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