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基于表面势的氢化非晶硅薄膜晶体管直流特性研究
  • ISSN号:1000-3290
  • 期刊名称:《物理学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN322.8[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]华南理工大学电子与信息学院,广州510640
  • 相关基金:国家自然科学基金(批准号:61274085)资助的课题.
中文摘要:

基于表面势模型,在同时考虑深能态和带尾态分布下,采用简化的费米一狄拉克函数计算得到统一的定域态模型,并利用有效特征温度的概念,推导出a-Si:HHT统一的电流.电压(I-V)模型.该模型可不分区地描述包括亚阈值区、线性区以及饱和区等a-Si:HTI可的所有工作区域.与实验得到的I-V特性进行比较表明,本模型能够准确地描述a-Si:HTFT的各个工作区的电流电压特性.

英文摘要:

In this paper, based on the surface potential model, taking into account both the deep and tail state distributions simultaneously, and using the simplified Fermi-Dirac function, a unified local-state model is obtained. Using the effective characteristic temperature, the unified current-voltage (l-V) model for a-Si : H thin-film transistor a-Si : H TFT is developed. This model can describes all operating regions including subthreshold region, linear area and saturated zone through a single equation. By comparison with the experimental data, it is shown that this model can accurately describe the current voltage characteristic of the a-Si : H TFT.

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期刊信息
  • 《物理学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
  • 主编:欧阳钟灿
  • 地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
  • 邮编:100190
  • 邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649026
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-3290
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
  • 邮发代号:2-425
  • 获奖情况:
  • 1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:49876