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Electron Field Emission of CNx Thin Films Prepared by Low Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapour D
  • ISSN号:0256-307X
  • 期刊名称:Chin. Phys. Lett.
  • 时间:0
  • 作者或编辑:3448
  • 第一作者所属机构:Wuhan University
  • 页码:2002.03,Vol.19, No.3, P.416~418
  • 语言:英文
  • 相关项目:硅尖锥离子掺杂氮化碳包层膜的场电子发射特性研究
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期刊信息
  • 《中国物理快报:英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国科学院物理研究所、中国物理学会
  • 主编:
  • 地址:北京中关村中国科学院物理研究所内(北京603信箱《中国物理快报》编辑部)
  • 邮编:100080
  • 邮箱:cpl@aphy.iphy.ac.cn
  • 电话:010-82649490 82649024
  • 国际标准刊号:ISSN:0256-307X
  • 国内统一刊号:ISSN:11-1959/O4
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵“双高”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),美国数学评论(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,英国英国皇家化学学会文摘
  • 被引量:190