Electron Field Emission of CNx Thin Films Prepared by Low Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapour D
- ISSN号:0256-307X
- 期刊名称:Chin. Phys. Lett.
- 时间:0
- 作者或编辑:3448
- 第一作者所属机构:Wuhan University
- 页码:2002.03,Vol.19, No.3, P.416~418
- 语言:英文
- 相关项目:硅尖锥离子掺杂氮化碳包层膜的场电子发射特性研究