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A Novel Model of the H Radical in Hot-Filament Chemical Vapor Deposition
  • ISSN号：0256-307X
  • 期刊名称：Chinese Physics Letters
  • 时间：0
  • 页码：028101-028101-4
  • 语言：英文
  • 相关项目：透明氧化物半导体CuAlO2薄膜外延生长及其p型掺杂研究
作者： Zhang Shan-Shan|Bao Zhong|Guo Xiao-Song|Xie Er-Qing|
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期刊论文 16 专利 3
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期刊信息
  • 《中国物理快报：英文版》
  • 中国科技核心期刊
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  • 主编：
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  • 国际标准刊号：ISSN：0256-307X
  • 国内统一刊号：ISSN：11-1959/O4
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵“双高”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,美国数学评论（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引（扩展库）,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,英国英国皇家化学学会文摘
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