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双靶磁控溅射共沉积V—C—Co薄膜的结构及力学性能
  • ISSN号:1672-7126
  • 期刊名称:《真空科学与技术学报》
  • 时间:0
  • 分类:O484[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]昆明理工大学材料科学与工程学院,昆明650093, [2]中国科学院宁波材料技术与工程研究所,宁波315201
  • 相关基金:国家自然科学基金项目(51165016)
中文摘要:

通过双靶磁控溅射共沉积法,在硅(100)和康宁玻璃基片上制备了一系列不同Co含量(原子含量0~27.2%)的V-C-Co薄膜,并分别用扫描电子显微镜及其附带的X射线能谱仪分析了薄膜的生长结构及成分,用X射线衍射仪分析了薄膜的相组成,用纳米压痕仪分析了薄膜的力学性能。结果表明,Co在V-C-Co中以非晶的形式存在,且Co的加入会使VC晶粒尺寸变小,V-C-Co结晶性变差。随着Co含量的增加,薄膜呈现出较好的综合机械性能,且在含量为11.9%时达到最优。

英文摘要:

The V-C-Co coatings were deposited by magnetmn co-sputtering of the V-C ceramic and Co targets, on Si (100) and Coming glass substrates. The impacts of the deposition conditions on the mechanical properties were evaluated. The V-C-Co coatings were characterized with X-ray diffraction, scanning electron microscopy, energy dispersive spectroscopy, and conventional mechanical probes. The results show that the Co content significantly affects the microstructures and mechanical properties of the coatings. For instance, the amorphous Co inversely influenced the crystalline structures of the V-C-Co coating and reduced the V-C grain sizes. As the Co content increased, the plasticity increased sharply, accompanied by a decrease of surface hardness. At a compromised Co content of 11.9 % (at), the hardness and plasticity index of coating were found to be 22 GPa and 0.53,respectively.

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期刊信息
  • 《真空科学与技术学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国真空学会
  • 主编:李德杰
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  • 邮编:100022
  • 邮箱:cvs@chinesevacuum.com
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  • 国际标准刊号:ISSN:1672-7126
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5177/TB
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  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:4421