位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
High-rate homoepitaxial growth of CVD single crystal diamond by dc arc plasma jet at blow-down (open
  • ISSN号：0925-9635
  • 期刊名称：Diamond and Related Materials
  • 时间：2014
  • 页码：42-51
  • 相关项目：气体循环直流旋转电弧等离子体喷射动态气相环境下生长金刚石大单晶研究
作者： Liu, J.|Hei, L.F.|Song, J.H.|Li, C.M.|Tang, W.Z.|Chen, G.C.|Lu, F.X.|
同期刊论文项目
气体循环直流旋转电弧等离子体喷射动态气相环境下生长金刚石大单晶研究
期刊论文 11 会议论文 2
同项目期刊论文
直喷式直流电弧等离子化学气相沉积法金刚石单晶外延层制备研究
Fabrication and characterizations of large homoepitaxial single crystal diamond grown by DC arc plas
贫氢富氩气氛下超纳米金刚石薄膜的生长(英文)
Mechanical properties of ultrananocrystalline diamond films modified by hydrogen concentration in de
非对称双极脉冲反应磁控溅射制备TiN/NbN多层膜
Influence of seeding pre-treatments on mechanical properties of ultrananocrystalline diamond films o
预处理对超纳米金刚石薄膜表面质量的影响
Energy consumption of electrooxidation systems with boron-doped diamond electrodes in the pulse curr
贫氢富氩气氛下超纳米金刚石薄膜的生长
CVD金刚石大单晶外延生长及高技术应用前景