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脉冲重复频率对脉冲激光沉积薄膜的生长过程的影响
  • ISSN号:1000-985X
  • 期刊名称:《人工晶体学报》
  • 时间:0
  • 分类:O484.1[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]河北大学物理科学与技术学院,保定071002, [2]华中科技大学物理系,武汉430074
  • 相关基金:Project supported by the National Scienctist Fund for Youth Science of China (No. 10604017 )
中文摘要:

脉冲重复频率在脉冲激光沉积技术中起重要的作用,影响最终的薄膜材料的性能。利用动力学蒙特卡罗方法,我们研究了脉冲激光沉积技术中,在不同脉冲重复频率条件下的薄膜生长的初期阶段。模拟结果显示,在低脉冲频率时,前后脉冲之间的间隔时间较长,生长岛有足够的时间熟化。因此,生长岛的密度会比较小且岛的形貌比较规则。而当脉冲重复频率增大时,岛的密度则随之增加,岛呈现出松散的或者枝杈状的形貌。另外,脉冲占空比也就是沉积时间在一定程度上也会对岛的凝聚过程有影响。最后我们将模拟结果与实验结果进行了对比和讨论。

英文摘要:

Pulse repetition rate plays an important role in pulsed laser deposition (PLD) technique, which has been shown to have an influence on final material properties. Using kinetic Monte Carlo method, we simulated the early stage of film growth with varying pulse repetition rate in pulsed laser deposition process. The simulation results display that at a low pulse repetition rate increase, there is such a longer pulse interval that islands are given more time to ripen. As a result, the total of island density reduces and film aggregation tends to compact shape. Island density will increase with pulse repetition rate increase, and islands may be in dispersed or dendritic mode. Duty cycle, that is, deposition time also can effect on islands aggregation to a certain extent. The obtained results have been compared with some experimental data.

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期刊信息
  • 《人工晶体学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国建材工业协会
  • 主办单位:中国硅酸盐学会 晶体生长与材料专业委员会 中材人工晶体研究院
  • 主编:余明清
  • 地址:北京市733信箱
  • 邮编:100018
  • 邮箱:
  • 电话:010-65492963 65492968 65493320
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-985X
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2637/O7
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1997年获国家科技优秀期刊,获部级优秀科技期刊奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:9943