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磁控溅射法制备铁酸铋基薄膜的研究进展
  • ISSN号:1001-9642
  • 期刊名称:中国陶瓷
  • 时间:2014.6.5
  • 页码:5-9
  • 分类:TM221[电气工程—电工理论与新技术;一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:重庆科技学院冶金与材料工程学院
  • 相关基金:国家自然科学基金(51102288,51372283);重庆市教委科学技术研究项目(KJ131402);重庆市自然科学基金(CSTC2012jjA50017);重庆科技学院博士教授科研启动基金(CK2013B08)
  • 相关项目:基于原位光辐照扫描探针的铁电薄膜电畴驱动光伏的机制研究
中文摘要:

铁酸铋材料是唯一的室温单相多铁材料,在微电子学、光电子学等领域具有广泛的应用。磁控溅射法是制备铁酸铋薄膜的一种常见手段。本文综述了射频磁控溅射制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了溅射工艺参数(靶材、缓冲层、溅射气压、氧气压力、沉积温度)对其微结构与电性能的影响,并提出了亟待解决的问题。

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期刊信息
  • 《中国陶瓷》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国轻工业陶瓷研究所
  • 主办单位:中国轻工业陶瓷研究所
  • 主编:吴先益
  • 地址:江西景德镇市新厂西路556号
  • 邮编:333000
  • 邮箱:china_ceramics@vip.163.com
  • 电话:0798-8439006 8439093
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-9642
  • 国内统一刊号:ISSN:36-1090/TQ
  • 邮发代号:44-30
  • 获奖情况:
  • 核心期刊(中文核心期刊、中国科技核心期刊、中国...
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:8134