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Ce、V共掺杂BiFeO_3多铁薄膜及其电性能研究
  • ISSN号:1001-9731
  • 期刊名称:《功能材料》
  • 时间:0
  • 分类:O487[理学—固体物理;理学—物理] O482.41[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]武汉大学物理科学与技术学院,湖北武汉430072
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50872097)
中文摘要:

采用sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上成功制备出纯BiFeO3(BFO)和Ce、V共掺杂Bi0.97Ce0.03Fe1-xVxO3(x=0,0.01,0.02,0.03)(BCFVx)薄膜。结构和形貌测试表明,Ce、V共掺杂使得BFO薄膜发生从菱方结构到伪四方结构的转变,且薄膜晶粒变小。介电性能和漏电流测试表明,Ce、V共掺杂BFO薄膜的介电常数增大,介电损耗和漏电流密度减小。铁电性能测试表明在x=0.01时,BCFV 0.01薄膜具有较好矩形度的电滞回线,表现出较好的铁电性能。

英文摘要:

Pure,Ce^3^+ and V^5^+ co-doped multiferroic BiFeO3 thin films,BiFeO3(BFO) and Bi0.97Ce0.03Fe1-xVxO3(x=0,0.01,0.02,0.03)(BCFVx),were successfully prepared on Pt/Ti/SiO2/Si substrates by sol-gel technique.The structures and the surface morphologies measurements revealed a gradual phase transition from a rhombohedral to a pseudotetragonal structure and decreased grain sizes in the Ce and V co-doped BFO films.The dielectric property and leakage current density measurements indicated a large increase in the dielectric constanct and greatly decreases in the dielectric loss and the leakage current density in the Ce and V co-doped BFO films.Improved ferroelectric properties were obtained in the BCFVx films of x=0.01 with a well squared-shaped P-E hysteresis loop.

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期刊信息
  • 《功能材料》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:重庆材料研究院
  • 主办单位:重庆材料研究院
  • 主编:黄伯云
  • 地址:重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
  • 邮编:400707
  • 邮箱:gnclwb@126.com
  • 电话:023-68264739
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-9731
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1099/TH
  • 邮发代号:78-6
  • 获奖情况:
  • 2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:30166