本项目探索研究纳米微结构光盘的新材料和新结构,探索阐明其微纳特征结构、局域光学效应和超分辨光存储特性之间的关系,从而基于新型金属有机化(复)合物掩膜结构优化制备出纳米微结构光盘原型器件,可动态记录/读出尺寸为50nm左右的记录点,实现超分辨可擦重写。使存储密度可达每平方英寸60Gb以上,光盘容量可达太位级(~1Tb),可形成具有自主知识产权的新型纳米微结构光盘技术基础。
基于光盘中形成的微纳功能结构(如直接制备的各层厚度为纳米尺度的多层掩膜结构、直接制备的纳米微结构表面、薄膜和激光诱导产生的纳米微结构),利用其特殊的局域光学特性(如近场增强),可望实现超分辨纳米光存储(记录点尺度小于100nm)。基于以上考虑,在上个已结题基金项目的基础上,本项目探索研究构建新型纳米微结构光盘的新材料和新结构,重点探索其微纳特征结构、局域光学性质、超分辨光存储特性之间的关系。探索制备光存储用新型纳米微结构多层膜原型器件,实现尺寸小于100nm的超分辨记录,可为发展具有自主知识产权的太位级新型纳米微结构光盘奠定重要基础。