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　金属基亚微米结构紫外激光刻蚀技术与系统
  • 项目名称：　金属基亚微米结构紫外激光刻蚀技术与系统
  • 批准号：2006AA04Z318
  • 项目来源：“十一五”国家高技术研究发展计划(863计划)先进制造技术领域2006年度专题课题
  • 研究期限：2006-11-
  • 项目负责人：陈林森
  • 依托单位：苏州苏大维格数码光学有限公司
  • 批准年度：2006
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 3
  • 0
  • 0
  • 0
  • 0
期刊论文
采用亚微米埋入式光栅的彩色滤光片
镍金属表面双光束激光干涉直写研究
多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构
陈林森的项目