中文摘要：

一般认为长脉冲激光辐照过程中光学薄膜和元件中的缺陷会诱导激光致损从而导致整个高功率激光系统无法正常工作，而超短脉冲致损光学材料主要由材料本身属性决定。本项目以典型高功率激光元件（光学薄膜和熔石英）为研究对象，以缺陷诱导激光致损的观点为研究主线，将系统的开展脉冲激光辐照下缺陷对典型光学材料抗激光损伤性能影响的研究。针对光学薄膜，选取四种典型薄膜进行纳秒和皮秒的单脉冲激光损伤实验，在理论上将建立节瘤缺陷和纳米颗粒缺陷致损模型，通过将实验损伤形貌与理论模拟结果对比的方法，研究超短脉冲激光辐照下缺陷是否是诱导薄膜致损的主要原因。对于熔石英材料，以三种传统抛光工艺生产的熔石英为研究样品，进行355nm的纳秒激光损伤实验，研究不同工艺导致的熔石英表面缺陷在激光辐照过程中的损伤特性，结论将在指导用于紫外激光核聚变的熔石英元件抛光工艺的选择与改进方面有重要意义。