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强磁场磁控溅射的基础研究
  • 项目名称：强磁场磁控溅射的基础研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：51277172
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：邱清泉
  • 依托单位：中国科学院电工研究所
  • 批准年度：2012
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 2
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期刊论文
YBCO带材交流损耗的数值仿真与分析
Simulation of Discharge Plasma in Mid-frequency Pulsed DC Magnetron
邱清泉的项目
中频脉冲直流磁控溅射放电机理与镀膜应用
期刊论文 3 专利 3