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拓扑晶态绝缘体的薄膜生长及能带调控
项目名称:拓扑晶态绝缘体的薄膜生长及能带调控
项目类别:面上项目
批准号:11474058
项目来源:国家自然科学基金
研究期限:1900-01-01-1900-01-01
项目负责人:修发贤
依托单位:复旦大学
批准年度:2014
成果综合统计
成果类型
数量
期刊论文
会议论文
专利
获奖
著作
2
0
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0
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期刊论文
Wafer-scale arrayed p-n junctions based on few-layer epitaxial GaTe
Manganese and chromium doping in atomically thin MoS2
修发贤的项目
拓扑绝缘体薄膜的磁性掺杂及磁性调控
新型二维原子晶体材料的生长及光电器件研究
期刊论文 1
拓扑绝缘体
期刊论文 2