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光折变含氟铁电液晶高分子研究
  • 项目名称:光折变含氟铁电液晶高分子研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:29974038
  • 申请代码:B040305
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2000-01-01-2002-12-01
  • 项目负责人:闻建勋
  • 负责人职称:研究员
  • 依托单位:华东理工大学
  • 批准年度:1999
中文摘要:

本工作的目的是探索铁电-反铁电高分子的反铁电液晶结构的光折变现象。通过取向增值模型提高光折变性能及响应速度,以适应光计算、光信息存储、光放大及光处理技术对材料的需求。本工作探索性强为其特点,研究了各种液晶结构,例如含氟二苯乙炔系、含氟甾体系、含硫及氧杂环系、双二苯乙炔含氟液晶以及含氟的香蕉型液晶。香蕉型是继德国小组突破希夫碱结构后,在含氟苯乙炔方面对希夫碱结构的突破进展,有强的反铁电性,Ps高达130 nc/cm2,在制备实用液晶材料方面有应用价值,可以作为光折变液晶高分子的液晶单元。该工作是较大的研究方向的开端。

结论摘要:

光折变材料在光信息存储、光处理、光放大及光学相位共轭技术方面有重要作用。鉴于无机晶体成本高且难于加工,有机高分子的较强的光折变效应引人瞩目。本研究目的在于为取向增值模型探索相当的化学结构体系。研究各种含氟甾体铁电液晶及其组成的高分子的超分子结构与光折变效应的关系,为探索光折变效应强的光学均匀性的有机高分子材料的合成途径


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
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