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中文摘要：
首次利用光折变效应，通过成像方法在掺铁铌酸锂晶体中成功地实时制作了光折变位相图和位相元件（位相波带片、达曼光栅、透镜阵列、阵列波导等）。利用光折变饱和非线性，首次在不同光强比条件下通过数字和模拟记录两种方式分别制作了阶跃型和梯度型位相元件。首次观察到光折变位相图的可见性并用波导原理和空间孤子作了合理解释。理论推导和实验证明了在一定条件下非相干辐照可以有效地控制写入条件，克服光折变各向异性对制作二维位相元件的影响，提高量化位相波带片的衍射效率。这是利用非线性光学效应通过入射光强分布直接实现并控制介质中的的射率分布的全光学方法，它为二元光学与集成光学制作工艺与技术提供了新思路。
结论摘要：
英文主题词photorefractive, phase mask ,phase component
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