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“雕塑”薄膜的结构控制和光学性能研究
  • 项目名称:“雕塑”薄膜的结构控制和光学性能研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:60778026
  • 申请代码:F050802
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2008-01-01-2010-12-31
  • 项目负责人:贺洪波
  • 负责人职称:研究员
  • 依托单位:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 批准年度:2007
中文摘要:

利用倾斜沉积技术,可以控制薄膜的生长行为,得到不同于传统光学薄膜的、在亚微米尺度上各向异性微结构的新型薄膜材料,使其对入射光波产生明显的各向异性调制作用,出现类似于晶体的双折射特性。本项目从倾斜沉积技术入手,建立了可以控制薄膜生长行为的制备装置,进行了ZrO2、TiO2、 SiO2、Ta2O5、Nb2O5等多种氧化物薄膜材料的制备工艺研究,获得了稳定可控的薄膜结构,并利用沉积参数及后处理手段调节薄膜的各向异性特性。研究了"雕塑"薄膜内部电磁场传输特性,建立双折射薄膜光学性质计算程序,提取薄膜的主轴折射率及光轴方向。基于"雕塑"薄膜结构参数,利用单一TiO2材料设计并制备了正入射偏振分离薄膜,45 入射消偏振薄膜及实现两种偏振态相移量调节的位相延迟片。在薄膜器件制备中,充分考虑了倾斜沉积所固有的薄膜不均匀问题,在电磁场分析的基础上,采用了双层结构替代单层结构,很好解决了该技术不能制备较大尺寸薄膜元件瓶颈。通过在氧化物中掺入金属,获得了电学及光学各向异性的多功能薄膜材料。另外,对于"雕塑"薄膜的亲水特性进行研究,采用硅烷化等技术改善薄膜的环境稳定性。

结论摘要:

英文主题词sculptured thin film; microstructure; birefringence


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 10
  • 0
  • 3
  • 0
  • 0
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