位置：立项数据库 > 立项详情页
高分子光敏材料基础研究
  • 项目名称：高分子光敏材料基础研究
  • 项目类别：重点项目
  • 批准号：59633110
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：曹维孝
  • 依托单位：北京大学
  • 批准年度：1996
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 1
  • 0
  • 0
  • 0
  • 0
期刊论文
193nm光刻胶研究现状
曹维孝的项目
高分子感光材料合成及聚合物光接枝改性
纳米结构功能膜制备及其成像性质研究
基于重氮基高分子的核壳结构、胶体晶体为模板的孔材料
感光性聚离子复合物及其与表面活性剂相互作用
新型水溶性负性胶印用光刻蚀材料